ダイレクト浸炭

真空雰囲気へのアセチレンガスのパルス方式による噴射にて浸炭処理をする表面処理法です。
本方式により浸炭処理におけるCO2排出を大幅に抑制できます。
また通常のガス浸炭では困難な細穴に対する浸炭も実現できます。
当社所有設備は真空浸炭と窒化処理が一連で処理完結が出来ることも特徴のひとつです。